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1200℃滑動雙溫區(qū)/多溫區(qū)PECVD系統(tǒng)

產(chǎn)品用途:產(chǎn)品專業(yè)性:PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

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    產(chǎn)品用途:

    產(chǎn)品專業(yè)性:

    PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜。

     

    產(chǎn)品組成:

    PECVD系統(tǒng)配置:

    1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐

    2.等離子射頻電源

    3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

    4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)  

     

    產(chǎn)品特點:

    生長溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,適用范圍廣,設備簡單。

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    聯(lián)系地址: 天津北辰科技園區(qū)雙川道11號

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